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emic紫外線強(qiáng)度計(jì) 磁粉探傷 測(cè)量高亮度 探傷機(jī)UV-D3的介紹用于控制紫外線強(qiáng)度。用于控制黑光的紫外線強(qiáng)度。波長(zhǎng)為355-375納米（nm）具有峰值保持功能。易于閱讀的數(shù)字顯示。
產(chǎn)品型號(hào)：UV-D3廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時(shí)間：2023-04-13訪 問 量：750
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emic紫外線強(qiáng)度計(jì) 磁粉探傷 測(cè)量高亮度 探傷機(jī)UV-D3的介紹
emic紫外線強(qiáng)度計(jì) 磁粉探傷 測(cè)量高亮度 探傷機(jī)UV-D3的介紹
用于控制紫外線強(qiáng)度。
用于控制黑光的紫外線強(qiáng)度。
波長(zhǎng)為355-375納米（nm）
具有峰值保持功能。
易于閱讀的數(shù)字顯示。
該表面磁場(chǎng)測(cè)量?jī)x是用于“JIS Z 2320 磁粉探傷"的高斯計(jì)。
由于可以在一次測(cè)量中測(cè)量測(cè)試對(duì)象的表面磁通密度（目標(biāo)表面磁場(chǎng)估計(jì)），
有助于縮短測(cè)試時(shí)間和提高準(zhǔn)確性。
●外推磁場(chǎng)估計(jì)（配備霍爾元件2ch）
●真有效值交流測(cè)量
●電池驅(qū)動(dòng)/手持型
emic磁場(chǎng)測(cè)量的高斯計(jì) 磁粉探傷 測(cè)磁通密度GMS-103的介紹
黑光系列
功耗約為傳統(tǒng)的1/7。紫外線波長(zhǎng)
采用355-375納米（nm）LED，
最大中心強(qiáng)度約為 13mW/cm2，因此即使是很小的劃痕也能應(yīng)對(duì)。
此外，還安裝了脈沖模式以優(yōu)化圖像處理型磁粉探傷。
手持型
與手持式磁粉探傷儀結(jié)合使用。
只需將其連接到插座即可使用。
重量輕
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